GF100
- MultiFloTMテクノロジーよるガス種とフルスケール流量レンジを選択・変更
- ユーザーフレンドリーなインターフェイスの診断機能とサービスポート
- 耐腐食性のハステロイ製T-Riseセンサによる長期安定性能
- 超高速300msのセトリングタイムを実現(GF125/GF135)
- SDS(Safty Delivery System)、HA(高精度)オプション
- PTI(Pressure Transient Insesitivity)機能による優れた圧力変動耐性(GF125/GF135)
- 機械的可動部のないメンテナンスフリー構造。
- リアルタイムでのガス流量異常診断&検出機能を搭載(GF135)
- ご要望に応じて配管延長や接続用継手もご用意できます。
用途
- 最先端半導体製造プロセスのエッチャー、CVD、拡散炉
- 最先端化合物半導体MO-CVD
- OEM/多用なガス種、流量レンジへのMultiFloTMでの対応による
使用ガスライン/予備在庫数量削減 - PTI機能によるガスシステムの小型軽量化
- ガス流量異常診断&検出機能で、クリティカルなプロセスガスでの長期安定流量制御
仕様表
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